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      超滤膜设备装置浅谈关于膜元件的储存、再湿润及有机物污染的清洗

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      超滤膜设备装置浅谈关于膜元件的储存、再湿润及有机物污染的清洗

      发布日期:2019-05-18 作者:国电清航瑞恒江苏环保科技有限公司 点击:

      超滤膜设备装置浅谈关于膜元件的储存、再湿润及有机物污染的清洗

      一、关于膜元件的储存:

       请遵循以下的规则保存膜元件:

      · 存放地址有必要阴冷枯燥没有阳光直射;

      · 温度规模 4℃~45℃,新的未经使用的干式元件在低于 4℃时不会受影响;保存在 1%SMBS 规范维护液中的元件在 4℃以下时会结冰,因此应当避免;

      · 将元件尽可能一向保存在原始的包装内,在温度低于 45℃时干元件的保存时刻没有限制;

      · 用维护液保存的元件,每 3个月有必要查看一次微生物的生长状况,假如维护液发作混浊或超越 6个月的话,应从包装袋中取出元件,从头浸泡在新鲜的维护液中 1小时,沥干后再从头作密封包装;

      · 假如没有设备进行保存(如新鲜的维护液、清洁的环境或封袋机),元件能够在原始的含维护液的袋中存放Z多12个月,当元件装入压力容器中时,启用之前则应选用碱性清洗液进行清洗。

      · 保存液 pH 不可低于3,当亚硫酸氢钠氧化成硫酸时,pH 值会降低,这一点对海水淡化膜元件特别重要,因这此膜元件在低 pH 贮存时,脱盐率会受到影响。因此,亚硫酸氢纳保存液的 pH 值每3个月至少要抽样检测一下当 pH低于 3时,需更新保存液。

      二、膜元件的再湿润:    经过使用之后的膜元件不慎枯燥之后,可能会呈现不可逆水通量的丢失,请试用以下方式进行元件再湿润:    

      1. 在 50%乙醇水溶液或丙醇水溶液中浸泡 15分钟;   

       2. 将元件加压到 10bar 而且将产水口封闭 30 分钟,但应切记在进水压力泄压之前有必要先打开产水出水阀门,该进程可在元件装入体系内进行,在这种情况下,当产水出口封闭时,进水端与浓水端的压差不应大于 0.7bar,否则在浓水端就会呈现产水背压,引起膜片的损坏,Z稳妥的做法是,将产水出口阀门关小,使产水压力挨近浓水端压力,这样也就没有必要关心压降的限定问题了;   

       3. 将元件浸泡在 1%HCl或 4%HNO3中 1~ 100小时,元件有必要笔直浸泡,以便于排出元件内的空气。

      三、清洗有机物污染: 

      下列清洗程序是专门针对存在有机物如腐植酸和富里酸、阻垢剂或油等污染膜体系的清洗,对于一切清洗进程,其清洗体系配置、pH和温度规模及主张清洗流量值彻底相同,主张参考通用清洗导则的规则。    采纳六个进程清洗存在有机物污染的膜元件,但这六个清洗进程需要重复进行,一次为高 pH 清洗液,另一次为低 pH 清洗液:

      (1)制造清洗液:

      (2)低流量输入清洗液。    

      当清洗水泵混合清洗液,清洗液预热以及用清洗液置换元件内的原水时,应按表 7-1 所列流量值的一半即按低流量和低压力操作条件进行,所需的压力仅需到达足以弥补进水至浓水的压力丢失即可。压力有必要低到不会发生显着的浸透产水。低压能够Z大极限的减低污垢再次沉积到膜表面,视情况而定,应排放部分浓水以避免清洗液的稀释。

      (3)循环。    

      当原水被置换掉后,浓水管路中就应该呈现清洗液,能够让清洗液循环回来清洗液水箱,循环清洗液 30 分钟假如清洗液色彩仍发作变化,放掉清洗液从头按进程 1)制造新的清洗液。

      (4)浸泡。    

      停止清洗泵的运转,让膜元件彻底浸泡在清洗液中。元件浸泡时刻 1~15 小时(浸泡过夜将更好)。为了维持浸泡进程的温度,可选用很低的循环流量(约为表 7-1 所示流量的 10%),浸泡时刻随污染严重程度而定,对 轻度污染,浸泡1~2小时满足。

      (5)高流量水泵循环。循环 30 分钟。高流量能冲洗掉被清洗液清洗下来的污染物。假如污染严重,请选用高于表 7-1 所规则的 50%的流量将有助于清洗,在高流量条件下,将发生过高压降的问题,单元件Z大答应的压降为 1bar(15psi),对多元件压力容器Z大答应压降为 3.5bar(50psi),以先超出为限。

      (6)冲洗。    经预处理的合格预处理出水能够用于冲洗清洗液,除非存在腐蚀问题(如静止的海水将会腐蚀不锈钢管道)。为了避免沉积,Z低冲洗温度为 20℃,体系冲洗时刻约 1小时。

      (7)用 pH为2的 HCl溶液重复进程 2)至6)。

      (8)从头启动体系。    有必要等待元件和体系到达稳定后,记录体系从头启动后的运转参数,清洗后体系功能康复稳定的时刻取决于原先污染的程度。为了取得Z佳的功能,有时需要多次的清洗和浸泡进程。


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